logo
Ningbo Baosi Energy Equipment Co., Ltd.
Casa.
Prodotti
pulsometro rotatorio della pala
Pompa a vuoto a cilindrata rotante a olio a un solo stadio della serie SRV
Pompa a vuoto rotante a due fasi a oleo della serie DRV
Pompa di vuoto rotativa a due fasi.
Pulsometro del rotolo
Pulsometro asciutto della vite
pulsometro di radici
Pulsometro di ripetitore
sistema del pulsometro
Filtro dalla foschia dell'olio
Alto tubo a vuoto
Olio di pulsometro
Pulsometro molecolare
pompa a vuoto a secco
Di noi
profilo aziendale
Certificazione
Visita alla fabbrica
Profil QC
Contattaci
Compressore Baosi
citazione
Casa. > prodotti >
pompa a vuoto a secco
>
Pompa per vuoto a secco multistadio GRM201 Pompa per vuoto compatta senza olio da 200 m³/h per processi puliti a semiconduttori
Pompa per vuoto a secco multistadio GRM201 Pompa per vuoto compatta senza olio da 200 m³/h per processi puliti a semiconduttori
  • Pompa per vuoto a secco multistadio GRM201 Pompa per vuoto compatta senza olio da 200 m³/h per processi puliti a semiconduttori

Pompa per vuoto a secco multistadio GRM201 Pompa per vuoto compatta senza olio da 200 m³/h per processi puliti a semiconduttori

Dettagli del prodotto:
Luogo di origine: Cina
Marca: Baosi
Certificazione: ISO9001,ISO14001,ISO45001
Numero di modello: GRM201
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Cina
Marca:
Baosi
Certificazione:
ISO9001,ISO14001,ISO45001
Numero di modello:
GRM201
Velocità di pompaggio:
200 m³/h
Pressione estrema:
≤0,5 Pa
Potenza del motore:
1,9 CHILOWATT
Voltaggio:
380 V/trifase
Ingresso:
ISO63
Presa:
KF25
Rumore:
≤63dB(A)
Peso:
150 chilogrammi
Dimensioni:
741×344×466 mm
Acqua di raffreddamento:
0,1-0,6 MPa, ≥3 l/min
Spurgo N2:
0,2-0,6 MPa, 12-50 l/min
Evidenziare:

High Light

Evidenziare:

Pompa per vuoto a secco multistadio GRM201

,

pompa per vuoto compatta senza olio

,

pompa per vuoto a processo pulito a semiconduttore

Informazioni di trading
Quantità di ordine minimo:
1 insieme
Prezzo:
negotiable
Imballaggi particolari:
Imballaggio standard in cassa di legno per esportazione
Tempi di consegna:
15-25 giorni lavorativi
Termini di pagamento:
T/T
Capacità di alimentazione:
60 set/mese
Descrizione del prodotto

GRM201 Pompa a vuoto secco a radici a più stadi 200 m3/h Soluzione compatta senza olio

Il GRM201 è una pompa a vuoto a secco a radici a più fasi compatta, con una velocità di pompaggio di 200 m3/h e un funzionamento ultra silenzioso a ≤ 63 dB (((A).Il suo design di radici multi-stadio senza olio lo rende ideale per processi di semiconduttori puliti e medi, produzione fotovoltaica e linee di produzione di batterie al litio che richiedono un vuoto privo di contaminazione con un impatto minimo.

Caratteristiche chiave

  • Progettazione delle radici in più fasi:Basso consumo di energia con elevata efficienza di pompaggio
  • Operazione ultra silenziosa:≤ 63 dB ((A)
  • Meccanismo privo di olio:La camera di pompaggio non contiene assolutamente olio per la compatibilità del processo pulito
  • Motore sincrono a magnete permanente:1.9 kW con efficienza energetica superiore
  • Manipolazione della polvere superiore:Struttura avanzata del rotore per il miglioramento dei gas di scarico a particolato
  • Impronta compatta:Soltanto 741 * 344 * 466 mm, 150 kg
  • Tolleranza alla polvere e al vapore:Insensibile ai sottoprodotti di lavorazione e all'umidità
  • Protezione completa:Funzioni di sicurezza complete con capacità di adattamento
  • Controllo intelligente:I/O e RS485 (protocollo Modbus) per il monitoraggio remoto
  • Triplice sigillamento:Sigillo per labbra + sigillo labirintico + depurazione di azoto per un vuoto senza olio garantito

Specifiche tecniche

ModelloGRM201
Velocità di pompaggio200 m3/h
Pressione finale (senza depurazione)≤ 0,5 Pa
Potenza del motore1.9 kW
Voltaggio380V (3-fase)
Connessione di ingressoISO 63
Connessione di presaKF25
Livello di rumore≤ 63 dB (A)
Peso150 kg
Dimensioni (L*W*H)741 * 344 * 466 mm
Pressione dell'acqua di raffreddamento00,6 MPa
Flusso dell'acqua di raffreddamento≥ 3 L/min
N2 Pressione di depurazione00,6 MPa
Flusso di depurazione di N212 ‰ 50 l/min
Temperatura di funzionamento5 ̊40°C; ≤ 90% RH

Applicazioni

  • Semiconduttore Processi puliti/medi: ALD, PECVD, MOCVD, SACVD, RTP, HDP-CVD
  • Fotovoltaico: forni per la crescita dei cristalli, fabbricazione di celle solari
  • Batteria al litio: asciugatura sotto vuoto delle celle, riempimento di elettroliti, disgasamento
  • Laboratori di ricerca e sviluppo: università e ricerca industriale

Tag:

pompa per vuoto a turbina,

Pompa ad alto vuoto,

Pompa per vuoto a secco multistadio GRM201

prodotti simili
Pompa per vuoto ad artiglio secco GRH1202 Pompa per vuoto industriale senza olio da 1200 m³/h per processo CVD a semiconduttore

Pompa per vuoto ad artiglio secco GRH1202 Pompa per vuoto industriale senza olio da 1200 m³/h per processo CVD a semiconduttore

Ottieni il miglior prezzo
GRH6002 Pompa a vuoto con artigli secchi 6000 m3/h Pompa a vuoto senza olio ad altissima capacità per il processo dei semiconduttori

GRH6002 Pompa a vuoto con artigli secchi 6000 m3/h Pompa a vuoto senza olio ad altissima capacità per il processo dei semiconduttori

Ottieni il miglior prezzo
GRM602 Pompa a vuoto secco a radici a più stadi 600 m3/h Pompa a vuoto a media capacità senza olio per il processo dei semiconduttori

GRM602 Pompa a vuoto secco a radici a più stadi 600 m3/h Pompa a vuoto a media capacità senza olio per il processo dei semiconduttori

Ottieni il miglior prezzo
Pompa a vuoto secco raffreddata ad acqua 1200m3/h ≤ 0,5Pa priva di olio per applicazioni industriali

Pompa a vuoto secco raffreddata ad acqua 1200m3/h ≤ 0,5Pa priva di olio per applicazioni industriali

Ottieni il miglior prezzo
Pompa a vuoto a secco raffreddata ad acqua 200m³/h, ≤0.5Pa, 1.9kw, GRM201

Pompa a vuoto a secco raffreddata ad acqua 200m³/h, ≤0.5Pa, 1.9kw, GRM201

Ottieni il miglior prezzo
GRM1201 Pompa a vuoto secco a radici a più stadi 1200 m3/h senza olio per semiconduttori PECVD MOCVD

GRM1201 Pompa a vuoto secco a radici a più stadi 1200 m3/h senza olio per semiconduttori PECVD MOCVD

Ottieni il miglior prezzo
GRH1802 Pompa a vuoto a grila secca 1800 m3/h Pompa a vuoto senza olio ad alta velocità per la produzione di semiconduttori

GRH1802 Pompa a vuoto a grila secca 1800 m3/h Pompa a vuoto senza olio ad alta velocità per la produzione di semiconduttori

Ottieni il miglior prezzo
No.55, Juchao Rd, Subdistrict di Jiangkou, distretto di Fenghua, Ningbo, Zhejiang, Cina. E-mail: dragonsyy@cnbaosi.com Tel: +86-18069326698 Tel: +86-18069326698
La più grande Ricerca e Sviluppo e Produzione Rotary Vane Vacuum Pump Fornitore in Cina
8618069326698
syyjoyce
scorpiosyy
Politica sulla privacy | Mappa del sito | Cina Buona qualità pulsometro rotatorio della pala fornitore. 2018-2026 Ningbo Baosi Energy Equipment Co., Ltd. Tutti i diritti riservati.