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Pompa per vuoto ad artiglio secco GRH1202 Pompa per vuoto industriale senza olio da 1200 m³/h per processo CVD a semiconduttore

Pompa per vuoto ad artiglio secco GRH1202 Pompa per vuoto industriale senza olio da 1200 m³/h per processo CVD a semiconduttore

Dettagli del prodotto:
Luogo di origine: Cina
Marca: Baosi
Certificazione: ISO9001,ISO14001,ISO45001
Numero di modello: GRH1202
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Cina
Marca:
Baosi
Certificazione:
ISO9001,ISO14001,ISO45001
Numero di modello:
GRH1202
Velocità di pompaggio:
1200 m3/h
Pressione estrema:
≤0,5 Pa
Potenza del motore:
7,5+1,9KW
Voltaggio:
380 V/trifase
Ingresso:
ISO100
Presa:
KF40
Rumore:
≤ 70 DB ((A)
Peso:
220 chilogrammi
Dimensioni:
821×420×791 mm
Acqua di raffreddamento:
0,1-0,6 MPa, ≥4,7 l/min
Spurgo N2:
0,2-0,6 MPa, 4-96 l/min
Evidenziare:

High Light

Evidenziare:

pompa per vuoto a artiglio secco 1200 m³/h

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pompa per vuoto industriale senza olio

,

pompa per vuoto CVD a semiconduttore

Informazioni di trading
Quantità di ordine minimo:
1 insieme
Prezzo:
negotiable
Imballaggi particolari:
Imballaggio standard in cassa di legno per esportazione
Tempi di consegna:
30-45 giorni lavorativi
Termini di pagamento:
T/T
Capacità di alimentazione:
50 set/mese
Descrizione del prodotto

GRH1202 Pompa a vuoto con artigli secchi ¥ 1200 m3/h Soluzione industriale senza olio

La pompa GRH1202 è una pompa a vuoto a artiglio secco ad alte prestazioni della serie GRH, progettata per processi di produzione di semiconduttori, fotovoltaici e batterie al litio.Con una velocità di pompaggio di 1200 m3/h e una pressione finale ≤ 0.5 Pa, fornisce un vuoto affidabile senza olio senza rischio di contaminazione.

Caratteristiche chiave

  • Meccanismo di artigliatura senza olio:La camera di pompaggio non contiene olio o mezzo di lavoro, garantendo un vuoto pulito adatto a processi sensibili
  • Motore sincrono a magnete permanente:Fornisce un minor consumo di energia rispetto ai motori convenzionali
  • Progettazione avanzata del rotore:Capacità migliorata di trattamento delle particelle di polvere in ambienti di processo difficili
  • Tolleranza alla polvere e al vapore:Insensibile alla polvere e al vapore acqueo nei gas pompati
  • Impronta compatta:Progettazione a risparmio di spazio con elevata integrazione del sistema (821 * 420 * 791 mm)
  • Protezione completa:Funzioni di protezione completa con una forte capacità di autoadattamento
  • Low Vibration & Noise:≤ 70 dB (A) durante il funzionamento a pressione massima
  • Sigillazione avanzata:Il sigillo dei labbra e il sistema di sigillo del labirinto combinati con la purga di azoto impediscono la contaminazione dell'olio
  • Controllo a distanza:Interfaccia I/O e protocollo RS485 (Modbus) per il monitoraggio e il controllo remoto

Specifiche tecniche

ModelloGRH1202
Velocità di pompaggio1200 m3/h
La massima pressione≤ 0,5 Pa
Potenza del motore7.5 + 1,9 kW
Voltaggio380V (3-fase)
Connessione di ingressoISO100
Connessione di presaKF40
Livello di rumore≤ 70 dB (A)
Peso220 kg
Dimensioni (L*W*H)821 * 420 * 791 mm
Pressione dell'acqua di raffreddamento00,6 MPa
Flusso dell'acqua di raffreddamento≥ 4,7 l/min
N2 Pressione di depurazione00,6 MPa
Flusso di depurazione di N24,96 l/min
Temperatura di funzionamento5 ̊40°C; RH ≤ 80%

Applicazioni

  • Semiconduttore: Etch, impianto ionico, CVD, ALD, PECVD, MOCVD, SACVD, RTP, HDP-CVD
  • Fotovoltaico: forni per la crescita dei cristalli, produzione di celle solari
  • Batteria al litio: asciugatura sotto vuoto delle celle, riempimento di elettroliti, disgasamento